O plasma, consolidou-se como um método de processamento viável para varias aplicações. Dentre os processos a plasma, podemos destacar o tratamento de superfícies, como o a formação de filmes finos (PVD, CVD, PaCVD), nitretação e cementação. Entretanto essas tecnologias recorrentemente são realizadas em atmosfera de vácuo, que trazem consigo custos maiores e a necessidade de operar o processo em bateladas. Neste sentido, os plasma a pressão atmosférica mostram-se como uma alternativa para contornar tais incovenientes, permitindo assim a redução de custos  e possibilidade de realização de tratamentos de maneira contínua. Anteriormente foi realizada a construção de um reator que opera em um sistema de descarga expandida à pressão atmosférica controlada, em uma câmara de vácuo. O que explica a intenção deste projeto ser voltado para microplasmas à pressão atmosférica. Seja operando em atmosferas de vácuo ou à pressão atmosférica, o plasma opera em um regime com parâmetros específicos, onde é necessário um monitoramento de qualidade durante o processo, sendo alguns deles pressão, temperatura, tensão e corrente. A obtenção de resultados e o controle dos parâmetros permite um maior entendimento do processo como um todo, facilitando a interpretação dos resultados obtidos em cada tratamento. Sua obtenção e controle é de maior valor ainda quando se trata de um processo em desenvolvimento. Sendo assim, neste projeto de bolsa foi desenvolvido um sistema de medição e aquisição de dados para um sistema de reator de microplasmas à pressão atmosférica, a fim de entender melhor o sistema em operação, inicialmente realizado por meio de arduino e sensores, porém após análise foi encontrado uma solução mais adequada para a aquisição de alguns dados, terminando com um sistema híbrido entre multímetros bluetooth e arduino com conexão via wifi para realizar a medição de todos os parâmetros desejados sem correr risco de danificar os computadores ligados ao sistema.