O LabSiN tem por objetivo a produção e caracterização de materiais nanoestruturados de alta qualidade por técnicas baratas e acessíveis, para possível aplicação em sensores e dispositivos. Para atingir a nanoestruturação usamos o método litográfico conhecido por Litografia de Nanoesferas (LiN) o qual consiste no uso, como molde, de nanoesferas monodispersas auto-organizadas, de sílica ou polímero. A este molde damos o nome de máscara coloidal. Por meio de eletrodeposição, os interstícios dessas máscaras podem ser preenchidos por metais, óxidos ou polímeros. Após remoção seletiva da máscara, obtém-se uma rede nanoporosa ordenada de estrutura hexagonal do material desejavel.

O nosso objetivo foi investigar o processo de eletrodeposição da polianilina (PANI) sobre substratos de ITO. As propriedades morfológicas e elétricas destes filmes eletropolimerizados compactos foram correlacionadas com os parâmetros de fabricação, como a variação do potencial aplicado, o tipo de dopante e a espessura dos filmes. Os parâmetros de eletrodeposição que resultaram em filmes compactos de melhor qualidade foram utilizados na eletrodeposição da PANI por litografia de nanoesferas. Com isso obtivemos redes porosas de PANI sobre ITO.

Realizamos o estudo utilizando ácido sulfúrico e ácido dodecilbenzeno sulfônico (DBSA) como dopantes. Os potenciais de eletrodeposição foram medidos em relação a um eletrodo de calomelano saturado (SCE). Utilizamos três diferentes potenciais: 1,3; 1,4 e 1,5V/SCE para o ácido sulfúrico sendo o melhor em 1,5V/SCE. Para o DBSA o potencial utilizado foi apenas um potencial de 0,9V/SCE. Variamos as cargas entre 35 a 200mC, tendo obtido uma boa reprodutibilidade nas curvas de eletropolimerização. Escolhemos o ácido sulfúrico como dopante por este ser mais bem documentado na literatura. Selecionamos o potencial de 1,5V/SCE e carga de 25mC para crescer o filme no interstício da máscara, obtendo filmes nanoestruturados que reproduzem a periodicidade da máscara coloidal.